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          產品名稱:雙通道ALD管式爐系統

          產品型號:ALD-1200X-4

          更新時間:2022-08-01

          產品特點:雙通道ALD管式爐系統ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統,包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道質子流量計控制系統。該管式爐系統簡潔的設計使得更多的科擔的低成本情況下實現ALD工藝實驗。

          品牌合肥科晶價格區間面議
          儀器種類管式爐產地類別進口
          應用領域化工,能源,電子,電氣,綜合

          控制面板

          · 蒸汽壓力、ALD以及氣體流量參數均可通過一6英寸接觸屏由PLC進行控制 

          · 兩個ALD進氣閥 

          · 請點擊下圖查看控制面板(點擊圖片查看詳細資料)

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          ALD進氣閥 

          兩個ALD脈沖電磁閥(最小可在10ms完成閥門的開啟或關閉)

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          精密液體氣相發生器 

          精密液體氣相發生器包含在本系統中并且連接到ALD進氣閥

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          雙溫區管式爐

           · 連續工作的最高溫度為1100℃

           · 兩個溫區由兩個獨立的溫控系統來控制,而且都為PID30段程序化控溫 

           · 每個加熱區長度為200mm,加熱區總長度為400mm 

           · 爐管兩端放置管堵時兩溫區的最大溫度差為500℃

           · 輸入電壓:208-240V AC,單向最大功率為4KW

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          防腐型數顯真空計

           · 測量范圍:3.8x10-5 -1125 Torr

           · 耐腐蝕 

           · 對于氣體的壓力檢測具有較高的精確度和重復性

           · 可實現快速的氣體監測,響應時間較短易于更換插頭及傳感元件

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          真空泵(選配)

           · 管內真空度可達10-2Torr 真空泵不包含在本系統內,如您進行CVD實驗可點擊下圖選購無油渦旋真空泵

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          混氣系統

           · 可選購氣液混合裝置,用于CVD系統 

          · 可選購恒溫控制模塊

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          更新觀念

           · 您可采用ALD設備搭建等離子增強原子層沉積+化學氣相沉積系統(PE-ALD+CVD)和等離子增強原子層沉積+物理氣相沉積+化學氣相沉積ALD+PVD+CVD),用于生長各類材料

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          質保期 

          一年保質期,終身維護(不包含爐管,加熱元件和密封圈)

          質量認證

           · 如您另付費用,我們可保證單臺儀器通過TUV(UL61010)或CSA認證

          注意事項 

          · 爐管內氣壓不可高于0.02MPa· 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa 會更加精確安全· 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態· 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊· 點擊此處了解如何選擇本公司石英/陶瓷管以及管式爐真空法蘭本公司有權隨時修改PE-CVD系統的設計不再另行通知,但我們保證修改之后的儀器質量可以達到和超過上述標準

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